无碱玻璃基片介电性能优良，表面平整度高、刚性好、强度大，并且具有很好的热稳定性和化学稳定性，适宜表面镀膜处理，是光电元器件和设备的一种理想基片材料，主要用作场致发光器、液晶置换器、太阳能电池和光掩膜技术的基片。

主要性能指标
    1 电学性能
    ①．表面电阻率：1.30×10¹⁶ Ω·cm（19℃）
    ②．体积电阻率：2.49×10¹⁵ Ω·cm（19℃）
    ③．不同温度下的体积电阻率：

    ④．介电常数：7.41（19℃, 1MHz）
    ⑤．介电损耗：0.00141（19℃, 1MHz）
    2 热学性能
    ①．膨胀系数：3.6×10^-6/℃
    ②．软化温度：740℃
    3 化学性能
    在清洗或化学侵蚀制作图形过程中，基片不易被侵蚀。